Die Laserdioden-Strahlquellen der Reihe ›51nano‹ von Schäfter+Kirchhoff versprechen ein geringes Leistungsrauschen, eine reduzierte Kohärenzlänge und einen verminderten Speckle-Kontrast. Sie eignen sich somit ideal für nanotechnische Anwendungen, wie zum Beispiel die Rasterkraftmikroskopie (Atomic Force Microscopy, AFM). Diese ermöglicht es, Mikrostrukturen wie Grafen oder Nanotubes mit Auflösungen im Ångströmbereich (10–10 m) zu untersuchen oder die Kräfte einzelner Muskelfasern im Bereich weniger Pico-Newton (10–12 N) zu messen. Als weiteres Einsatzgebiet bietet sich die Hochenergiephysik an, bei der die Laser zum Erzeugen von Pilotstrahlen für präzise Alignmentaufgaben verwendet werden.
In den 51nano-Lasern wird dafür gesorgt, dass viele Moden gleichzeitig anschwingen, wodurch ein stabiles Emissionsverhalten mit vermindertem Leistungsrauschen (< 0,1 Prozent RMS) und reduzierter Kohärenz (< 300 µm) erreicht wird. Für besonders rauschempfindliche Anwendungen, wie erwa bei faseroptischen Fabry-Perot-Interferometern oder Partikelmessungen, sorgt in der Variante ›51nanoFI‹ ein integrierter Faraday-Isolator dafür, dass auch zum Laser rückgestreute Strahlungsanteile den Laser nicht stören. Der 51nanoFI-TE besitzt für wellenlängenempfindliche Anwendungen neben einem Faraday-Isolator ein integriertes Thermoelement zur thermischen Stabilisierung der Zentralwellenlänge. Die Laserquellen der Reihe 51nano sind in einem Wellenlängenbereich von 405 bis 1080 nm und mit Ausgangsleistungen bis zu 30 mW erhältlich. Aufgrund der Einkopplung in eine einmodige Faser ist das Strahlprofil gaußförmig und rotationssymmetrisch.
Zur Kollimation des Strahls bietet Schäfter+Kirchhoff eine große Vielfalt an Faserkollimatoren, Mikrofokusoptiken und Filtern. Vakuum-Durchführungen und faseroptische Strahlteiler sind ebenfalls erhältlich.