Ein neues optisches Messsystem, ausgestattet mit einem Excimerlaser, stellt phasenschiebende Masken ins richtige Prüflicht

Bisherige Halbleiterchips für Computer und Mobilanwendungen besitzen oft Schaltkreisbauelemente, die bis zu 65 nm klein sind. Erst jetzt ist ein neues Messsystem in der Lage, die für die Herstellung benötigten phasenschiebenden Masken auf Fehler zu prüfen, und es ist bereits für die Strukturgrößen von 45 und 32 nm ausgerüstet.

Von Ute Buttgereit | Ralph Delmdahl

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