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Archiv Laser+Photonik - Ausgabe 02/2009 Zurück zur Übersicht


Ellipsometrie als Werkzeug zur Analyse dünner Schichten
Ein optisches, leistungsfähiges Messverfahren zur Charakterisierung von Materialien und optischen Parametern
Ein in der Regel linear polarisierter Lichtstrahl trifft winklig auf eine Oberfläche, wobei der reflektierte Strahl bei gleichem Ausfallswinkel eine elliptische Polarisation aufweist – daher der Name Ellipsometrie.

Von Klaus Blanke
Erschienen in Laser+Photonik 02/2009, Seite 20-21
Direct Link: http://www.laser-photonik.de/directlink.asp?LP110019

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