Editorial
Press- und Müftechnik
Seite 3

Inhalt
Seite 4-5

SPECTARIS aktuell April 2009
Seite 12-13

Metrologie für photolithografische Masken
Ein neues optisches Messsystem, ausgestattet mit einem Excimerlaser, stellt phasenschiebende Masken ins richtige Prüflicht
Seite 16-19

Ellipsometrie als Werkzeug zur Analyse dünner Schichten
Ein optisches, leistungsfähiges Messverfahren zur Charakterisierung von Materialien und optischen Parametern
Seite 20-21

Stabilisierte CO₂-Laser für mobile Systeme
Neue Funktionen machen kommerzielle Systeme tauglich für Anwendungen in der Sensorik und Metrologie in vielen Industriezweigen
Seite 24-27

OPSLs: Laserlicht von UV bis zu nahem Infrarot
Optisch gepumpte Halbleiterlaser erfüllen kritische Anforderungen in Forschung und Entwicklung
Seite 28-31

Progressive Photonik-Integration
Integration ist die Schüsseltechnologie für die optische Kommunikation der Zukunft
Seite 38-41

The need for speed – der Impuls zählt
Das Ritzen von Glas- und Halbleiterwafern geht nicht immer nur mit Lasern oder Brechen – die Methoden können sich auch ergänzen
Seite 44-46

Fortschritte beim Kunststoffschweißen durch industrielle Diodenlaser
Viele Anwendungen können von erhöhter Flexibilität, geringeren Stückkosten und verbessertem Durchsatz profitieren
Seite 48-51

Vorschau
Seite 56