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Aktuelle Ausgabe  Laser+Photonik 02/2009
Editorial
Press- und Müftechnik
Seite 3
Inhalt
Seite 4-5
Metrologie für photolithografische Masken
Ein neues optisches Messsystem, ausgestattet mit einem Excimerlaser, stellt phasenschiebende Masken ins richtige Prüflicht
Seite 16-19
Ellipsometrie als Werkzeug zur Analyse dünner Schichten
Ein optisches, leistungsfähiges Messverfahren zur Charakterisierung von Materialien und optischen Parametern
Seite 20-21
Stabilisierte CO2-Laser für mobile Systeme
Neue Funktionen machen kommerzielle Systeme tauglich für Anwendungen in der Sensorik und Metrologie in vielen Industriezweigen
Seite 24-27
OPSLs: Laserlicht von UV bis zu nahem Infrarot
Optisch gepumpte Halbleiterlaser erfüllen kritische Anforderungen in Forschung und Entwicklung
Seite 28-31
Progressive Photonik-Integration
Integration ist die Schüsseltechnologie für die optische Kommunikation der Zukunft
Seite 38-41
The need for speed – der Impuls zählt
Das Ritzen von Glas- und Halbleiterwafern geht nicht immer nur mit Lasern oder Brechen – die Methoden können sich auch ergänzen
Seite 44-46
Fortschritte beim Kunststoffschweißen durch industrielle Diodenlaser
Viele Anwendungen können von erhöhter Flexibilität, geringeren Stückkosten und verbessertem Durchsatz profitieren
Seite 48-51
Vorschau
Seite 56

© 2009 by Carl Hanser Verlag