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Auf dem Weg zur Halbleiterproduktion der Zukunft

Der Kampf um jeden Nanometer

Der Kampf um jeden Nanometer
Mit einem neuen Lithografieverfahren lassen sich noch kleinere Strukturen auf Siliziumwafer projizieren und somit noch mehr Transistoren auf einen Chip packen. Der Trumpf “Laser Amplifier” liefert die dazu notwendigen Laserpulse.
 
Von Christoph Hertzler
Erschienen in Laser+Photonik 05/2013, Seite 12-13
Direct Link: http://www.laser-photonik.de/LP110232
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Schlagworte zum Artikel
Produktionstechnologien
EUV-Lithografie
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