Das 3D Laser-Lithografiesystem ›Photonic Professional GT‹ von Nanoscribe ist eine schnelle und leistungsstarke Plattform für die Mikro- und Nanofabrikation bis in die dritte Dimension. Mittels der Zwei-Photonen-Polymerisation werden nahezu beliebig komplexe Polymerstrukturen mit feinsten Abmessungen im Submikrometerbereich möglich.

Durch die ultrapräzise Galvotechnologie, die die Position des Laserfokus durch ein galvanisches Spiegelsystem in der Fläche ablenkt, wird der Schreibprozess im Vergleich zum Vorgängermodell enorm beschleunigt. Die Produktion großflächiger 3D Mikro- und Nanostrukturen wird so innerhalb kürzester Zeit ermöglicht.

Zusätzlich zum schnellen XY-Strahlscannen sorgt eine piezoelektrisch verstellbare Positionierbühne für ultrapräzise XYZ-Bewegungen des Trägermaterials relativ zur Position des Laserfokus.

Die kompakten Systeme arbeiten vollautomatisch. Durch eine intuitive und benutzerfreundliche Software werden anspruchsvolle Aufgaben erleichtert.

Strukturen können entweder mit 3D-Druckerkompatiblen CAD-Programmen entworfen oder direkt mit der von Nanoscribe entwickelten Skript-Sprache GWL erstellt werden.

Anwendung findet das Laser-Lithografiesystem zum Beispiel bei der Herstellung von Mikrooptiken, Freiformflächen, photonischen Kristallen oder photonischen Faserverbindungen. Weitere Anwendungsbereiche findet der Photonic Professional GT in den Biowissenschaften oder in der Mikro- und Nanofluidik.

Nanoscribe finden Sie auf der Photonics West am Stand 123 .